掩模板係半導體工藝有何重要用途??

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掩模板係製作集成電路不可或缺既部件
現代既半導體工藝,多數使用光刻蝕既方式進行製作
而掩模板既作用就類似沖曬相片時既菲林/底片
掩模板有希望刻蝕係半導體物料上既特定圖案
圖案有透明部份,有不透明部份
而當我地張掩模板放係經處理既半導體物料上
放係曝光機下以紫外光進行曝光
紫外光通過透明既部份同半導體物料上既感光劑起作用
而不透明部化就唔會起作用
作有後感光劑既圖形,係浸化學品既時候
就會刻蝕係半導體物料
換句話黎講掩模板就係左模咁令特定圖案刻係物料之上